プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9778 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. obs: 81218 / % possible obs: 95.8 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 19.2 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 14.4
反射 シェル
解像度: 1.7→1.76 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.48 / Mean I/σ(I) obs: 4.9 / % possible all: 91.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELX
CDE
位相決定
ARP/wARP
位相決定
REFMAC
5.6.0086
精密化
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.69→73.82 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 1.83 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.101 / ESU R Free: 0.1 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20756
4267
5 %
RANDOM
Rwork
0.17516
-
-
-
obs
0.17676
81218
93.59 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK