プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→45.83 Å / Num. obs: 20943 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 23.7 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 18.8
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 18.8 % / Rmerge(I) obs: 0.69 / Mean I/σ(I) obs: 4.8 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALEIT
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.9→154.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.919 / SU B: 6.662 / SU ML: 0.103 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.162 / ESU R Free: 0.158 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT. U VALUES WITH TLS ADDED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25883
676
3.2 %
RANDOM
Rwork
0.20568
-
-
-
obs
0.20727
20156
99.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK