モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97946 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.65→50 Å / Num. all: 23223 / Num. obs: 23180 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 10 % / Biso Wilson estimate: 19 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.088 / Net I/σ(I): 45.7
反射 シェル
解像度: 1.65→1.68 Å / 冗長度: 10.2 % / Rmerge(I) obs: 0.391 / Mean I/σ(I) obs: 4.4 / Num. unique all: 1106 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.7.0029
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.65→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 3.35 / SU ML: 0.051 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.075 / ESU R Free: 0.071 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.197
1176
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.159
-
-
-
obs
0.161
21760
99.35 %
-
all
-
21760
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK