モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.75→28.99 Å / Num. all: 42536 / Num. obs: 42536 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 10.6 % / Biso Wilson estimate: 16.9 Å2 / Rsym value: 0.12 / Net I/σ(I): 4.4
反射 シェル
解像度: 1.75→1.84 Å / 冗長度: 10.7 % / Mean I/σ(I) obs: 1.8 / Num. unique all: 6069 / Rsym value: 0.433 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
BSS
データ収集
SHELX
C/D/E
モデル構築
REFMAC
5.6.0117
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
C/D/E
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.75→24.64 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 2.181 / SU ML: 0.071 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.119 / ESU R Free: 0.114 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21
2985
7 %
RANDOM
Rwork
0.174
-
-
-
all
0.174
42392
-
-
obs
0.177
42392
99.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK