モノクロメーター: SAGITALLY FOCUSED SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97864 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→50 Å / Num. obs: 187095 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 7.1 % / Rsym value: 0.11 / Net I/σ(I): 17.9
反射 シェル
解像度: 1.9→1.97 Å / 冗長度: 6.8 % / Mean I/σ(I) obs: 4.1 / Rsym value: 0.448 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.9→49.14 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 4.613 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.106 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.168
9388
5 %
RANDOM
Rwork
0.125
-
-
-
obs
0.127
177631
99.9 %
-
all
-
177827
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK