温度: 291 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7.5 詳細: 0.1 M Na HEPES, 0.8 M sodium dihydrogen phosphate, 0.8 M potassium dihydrogen phosphate, supplemented with 35% glycerol for cryo-protection, pH 7.5, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 291K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: Diamond / ビームライン: I03
検出器
タイプ: ADSC QUANTUM 315 / 検出器: CCD
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
相対比: 1
Reflection
冗長度: 6.4 % / Av σ(I) over netI: 8.1 / 数: 68821 / Rsym value: 0.076 / D res high: 2.4 Å / D res low: 75.728 Å / Num. obs: 10754 / % possible obs: 93.3
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
7.59
44.46
99.1
1
0.055
0.055
6.2
5.37
7.59
99.5
1
0.065
0.065
6.6
4.38
5.37
99.7
1
0.053
0.053
7
3.79
4.38
99.9
1
0.054
0.054
7.1
3.39
3.79
100
1
0.064
0.064
7.2
3.1
3.39
99.9
1
0.079
0.079
7.3
2.87
3.1
100
1
0.119
0.119
7.3
2.68
2.87
98.7
1
0.16
0.16
6.4
2.53
2.68
87.5
1
0.203
0.203
4.8
2.4
2.53
67.9
1
0.258
0.258
4.3
反射
解像度: 2.4→75.728 Å / Num. all: 10754 / Num. obs: 10754 / % possible obs: 93.3 % / 冗長度: 6.4 % / Rsym value: 0.076 / Net I/σ(I): 17.2
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
2.4-2.53
4.3
0.258
3
4807
1117
0.258
67.9
2.53-2.68
4.8
0.203
3.7
6548
1366
0.203
87.5
2.68-2.87
6.4
0.16
4.7
9438
1465
0.16
98.7
2.87-3.1
7.3
0.119
6.1
10056
1383
0.119
100
3.1-3.39
7.3
0.079
8.9
9301
1279
0.079
99.9
3.39-3.79
7.2
0.064
10.2
8290
1152
0.064
100
3.79-4.38
7.1
0.054
11.5
7280
1027
0.054
99.9
4.38-5.37
7
0.053
11.4
6200
889
0.053
99.7
5.37-7.59
6.6
0.065
8.6
4471
681
0.065
99.5
7.59-44.463
6.2
0.055
10
2430
395
0.055
99.1
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALA
3.3.16
データスケーリング
PHASER
位相決定
PHENIX
1.7_650
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
MOSFLM
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.4→44.463 Å / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.8272 / SU ML: 0.33 / σ(F): 0 / 位相誤差: 23.98 / 立体化学のターゲット値: ML
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2362
526
4.89 %
RANDOM
Rwork
0.1839
-
-
-
obs
0.1863
10746
93.1 %
-
溶媒の処理
減衰半径: 0.95 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 28.376 Å2 / ksol: 0.377 e/Å3