モノクロメーター: Double silicon(111) crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→50 Å / Num. all: 33290 / Num. obs: 33290 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 6.1 % / Biso Wilson estimate: 38.15 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.118 / Rsym value: 0.083 / Net I/σ(I): 14.8
反射 シェル
解像度: 2.3→2.34 Å / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.689 / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / Rsym value: 0.622 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.31→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / SU B: 6.14 / SU ML: 0.152 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.235 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23089
1566
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16977
-
-
-
obs
0.17282
29178
92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK