THERE IS NO UNIPROT SEQUENCE DATABASE MATCH AT THE TIME OF PROCESSING. AUTHORS STATE THAT THE ...THERE IS NO UNIPROT SEQUENCE DATABASE MATCH AT THE TIME OF PROCESSING. AUTHORS STATE THAT THE SEQUENCE COULD BE FOUND IN CYANIDIOSCHYZON MEROLAE GENOME DATABASE (CDS# 3264).
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.9795
1
2
0.9791
1
Reflection
冗長度: 13.2 % / Av σ(I) over netI: 15.4 / 数: 207316 / Rmerge(I) obs: 0.088 / Χ2: 1.56 / D res high: 3.4 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 15696 / % possible obs: 97
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
7.32
50
98.4
1
0.046
2.736
12.6
5.81
7.32
100
1
0.083
2.321
13.8
5.08
5.81
100
1
0.103
1.581
14.1
4.61
5.08
100
1
0.101
1.464
14.2
4.28
4.61
100
1
0.137
1.359
14.3
4.03
4.28
100
1
0.219
1.218
14.3
3.83
4.03
100
1
0.345
1.163
13.9
3.66
3.83
99.4
1
0.512
1.179
12.8
3.52
3.66
93.8
1
0.736
1.155
11.2
3.4
3.52
77.9
1
0.915
1.117
10.1
反射
解像度: 3.5→50 Å / Num. obs: 56764 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 5.1 % / Rmerge(I) obs: 0.091 / Χ2: 1.299 / Net I/σ(I): 10.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
3.5-3.63
5.1
0.855
5710
0.791
100
3.63-3.77
5.2
0.507
5628
0.904
100
3.77-3.94
5.2
0.362
5709
0.956
100
3.94-4.15
5.2
0.219
5676
1.109
100
4.15-4.41
5.2
0.163
5662
1.239
100
4.41-4.75
5.1
0.117
5645
1.326
100
4.75-5.23
5.1
0.1
5710
1.46
99.9
5.23-5.98
5.1
0.103
5683
1.596
99.9
5.98-7.53
5
0.083
5701
1.99
99.8
7.53-50
4.8
0.054
5640
1.673
97.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.5.0109
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 3.5→29.66 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.902 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.898 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / SU B: 66.125 / SU ML: 0.459 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.566 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2841
2774
5 %
RANDOM
Rwork
0.2594
-
-
-
obs
0.2606
52710
97.45 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK