モノクロメーター: GRAPHITE / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.69→50.63 Å / Num. obs: 25911 / % possible obs: 98.59 % / 冗長度: 5.24 % / Rsym value: 0.148 / Net I/σ(I): 166.319
反射 シェル
解像度 (Å)
Rsym value
1.59-1.647
0.657
1.647-1.713
0.607
1.713-1.791
0.505
1.791-1.885
0.361
1.885-2.003
0.234
2.003-2.158
0.181
2.158-2.375
0.179
2.375-2.719
0.178
2.719-3.426
0.155
3.426-50.63
0.115
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 36.48 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
50.63 Å
Translation
2.5 Å
50.63 Å
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 30027
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
6.59-100
28.4
0.722
508
5.16-6.59
30.1
0.85
505
4.44-5.16
27.6
0.873
556
3.95-4.44
25
0.887
613
3.6-3.95
21.7
0.869
685
3.32-3.6
26.3
0.854
729
3.1-3.32
26.1
0.846
788
2.92-3.1
29.1
0.825
841
2.77-2.92
28.1
0.838
883
2.64-2.77
28.2
0.847
918
2.52-2.64
26.3
0.86
977
2.42-2.52
27.7
0.861
1005
2.33-2.42
28.7
0.853
1046
2.25-2.33
27
0.859
1072
2.18-2.25
27.4
0.856
1120
2.12-2.18
29
0.868
1144
2.06-2.12
28
0.852
1188
2-2.06
29.9
0.842
1220
1.95-2
32.4
0.82
1234
1.9-1.95
32.5
0.827
1284
1.86-1.9
37.1
0.796
1305
1.82-1.86
34.9
0.818
1337
1.78-1.82
34.8
0.801
1339
1.74-1.78
37.8
0.763
1403
1.71-1.74
38.9
0.745
1419
1.68-1.71
40.5
0.752
1443
1.65-1.68
42.7
0.719
1456
1.6-1.65
46.6
0.635
2009
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SAINT
V7.34A
データスケーリング
PHASER
2.1.4
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
SAINT
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.7→50.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.927 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.902 / WRfactor Rfree: 0.257 / WRfactor Rwork: 0.2208 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.7754 / SU B: 7.608 / SU ML: 0.109 / SU R Cruickshank DPI: 0.1395 / SU Rfree: 0.1349 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.135 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES: WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.271
1293
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2292
-
-
-
obs
0.2313
25462
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK