タイプ: ADSC QUANTUM 315 / 検出器: CCD / 日付: 2009年12月11日 詳細: Cryogenically-cooled single crystal Si(111) side bounce monochromator. Optional Si(311) to achive 13.474 keV. Vertical and horizantal focussing mirrors in Kirkpatrick-Baez geometry.
放射
モノクロメーター: Cryogenically-cooled single crystal Si(111) side bounce monochromator. Optional Si(311) to achive 13.474 keV. プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. all: 14963 / Num. obs: 14963 / % possible obs: 99.2 % / Observed criterion σ(F): 2 / 冗長度: 1.87 % / Biso Wilson estimate: 19.93 Å2 / Rsym value: 0.081 / Net I/σ(I): 40.84
反射 シェル
解像度: 1.7→1.79 Å / 冗長度: 1.92 % / Mean I/σ(I) obs: 18.9 / Num. unique all: 2143 / Rsym value: 0.066 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.934 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 2.662 / SU ML: 0.088 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.129 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25851
748
5 %
RANDOM
Rwork
0.22631
-
-
-
obs
0.2279
14963
99.2 %
-
all
-
14963
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK