プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9791 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.04→20 Å / Num. obs: 19781 / % possible obs: 97.1 % / 冗長度: 5.48 % / Rsym value: 0.053 / Net I/σ(I): 27.47
反射 シェル
解像度: 2.04→2.16 Å / 冗長度: 5.07 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Mean I/σ(I) obs: 9.22 / % possible all: 92.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
ADSC
Quantum
データ収集
SHELXD
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.04→19.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.931 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.916 / SU B: 3.051 / SU ML: 0.085 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.152 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21864
979
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17599
-
-
-
obs
0.17814
18142
96.66 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK