解像度: 1.75→1.78 Å / 冗長度: 6.3 % / Rmerge(I) obs: 0.54 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / Rsym value: 0.54 / % possible all: 91.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-3000
データ収集
HKL-3000
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
MLPHARE
位相決定
直接法
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
モデル構築
CCP4
モデル構築
ARP/wARP
モデル構築
REFMAC
5.5.0072
精密化
Coot
モデル構築
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
直接法
位相決定
RESOLVE
位相決定
CCP4
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.75→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 11.749 / SU ML: 0.156 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.142 / ESU R Free: 0.13 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24282
921
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21171
-
-
-
obs
0.21321
17118
98.83 %
-
all
-
17118
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK