解像度: 2.39→30 Å / Num. obs: 16661 / % possible obs: 96.8 % / Observed criterion σ(I): -1.5 / 冗長度: 6.9 % / Biso Wilson estimate: 36.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.129 / Net I/σ(I): 18.4
反射 シェル
解像度: 2.4→2.49 Å / 冗長度: 4.6 % / Rmerge(I) obs: 0.554 / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / Num. unique all: 1280 / % possible all: 76.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SOLVE
位相決定
PHENIX
(phenix.refine: 1.4_129)
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.39→29.798 Å / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.671 / SU ML: 0.44 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 1.92 / 位相誤差: 36.06 / 立体化学のターゲット値: ML 詳細: ANOMALOUS SCATTERER GROUPS DETAILS. NUMBER OF ANOMALOUS SCATTERER GROUPS : 1 ANOMALOUS SCATTERER GROUP : 1 SELECTION: name SE FP : -3.9200 FDP : 5.8667
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2857
1617
5.04 %
RANDOM
Rwork
0.2241
30460
-
-
obs
0.2274
32077
95.45 %
-
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 61.489 Å2 / ksol: 0.343 e/Å3