プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 61353 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 0 / Biso Wilson estimate: 21.7 Å2
反射 シェル
解像度: 2→2.07 Å / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.6 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 98.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.1.24
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.29→48.62 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.939 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.906 / SU B: 6.367 / SU ML: 0.16 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.333 / ESU R Free: 0.232 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.237
2015
5 %
RANDOM
Rwork
0.187
-
-
-
obs
0.19
38618
99.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK