冗長度: 2.9 % / Av σ(I) over netI: 27.88 / 数: 138717 / Rmerge(I) obs: 0.051 / Χ2: 1.01 / D res high: 2.3 Å / D res low: 100 Å / Num. obs: 47374 / % possible obs: 99.1
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.96
100
98
1
0.028
1.019
2.9
3.93
4.96
99.5
1
0.03
1.036
3
3.44
3.93
99.7
1
0.038
0.98
3
3.12
3.44
99.6
1
0.05
1.007
3
2.9
3.12
99.6
1
0.072
1.035
3
2.73
2.9
99.5
1
0.096
1.05
3
2.59
2.73
99.2
1
0.136
1.018
3
2.48
2.59
99
1
0.187
0.979
2.9
2.38
2.48
98.6
1
0.224
0.964
2.9
2.3
2.38
98
1
0.264
0.981
2.8
反射
解像度: 1.85→100 Å / Num. obs: 47833 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.044 / Χ2: 1.023 / Net I/σ(I): 27.879
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.85-1.92
3.5
0.408
4687
1.186
1
99.6
1.92-1.99
3.9
0.292
4740
1.121
1
99.8
1.99-2.08
4
0.199
4700
1.062
1
99.8
2.08-2.19
4.1
0.123
4736
0.993
1
100
2.19-2.33
4
0.112
4732
1.017
1
99.7
2.33-2.51
4.1
0.067
4791
0.944
1
100
2.51-2.76
4.1
0.053
4768
0.947
1
100
2.76-3.16
4.1
0.037
4822
0.963
1
100
3.16-3.99
4
0.029
4843
1.045
1
99.8
3.99-100
3.8
0.021
5014
0.994
1
98.8
-
位相決定
位相決定
手法: 多波長異常分散
Phasing set
ID
1
2
3
Phasing MAD
D res high: 2.36 Å / D res low: 30 Å / FOM : 0.47 / 反射: 23362
Phasing MAD set
Clust-ID
Expt-ID
Set-ID
波長 (Å)
F double prime refined
F prime refined
1
3wavelength
1
0.9796
3.85
-8.32
1
3wavelength
2
1.02
0.54
-2.84
1
3wavelength
3
0.9797
0.5
-8.05
Phasing MAD set site
ID
Atom type symbol
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
1
Se
14.631
0.801
0.24
0.216
0.629
2
Se
60
0.14
0.494
0.135
0.837
3
Se
60
0.16
0.582
0.186
0.761
4
Se
41.441
0.101
0.324
0.03
0.711
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
反射
8.39-30
0.69
1192
5.33-8.39
0.66
1961
4.18-5.33
0.58
2503
3.54-4.18
0.54
2884
3.13-3.54
0.51
3266
2.84-3.13
0.45
3565
2.61-2.84
0.38
3843
2.43-2.61
0.28
4148
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SOLVE
2.1
位相決定
RESOLVE
2.1
位相決定
REFMAC
refmac_5.2.0005
精密化
PDB_EXTRACT
3.006
データ抽出
HKL-2000
データ収集
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.85→59.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / WRfactor Rfree: 0.294 / WRfactor Rwork: 0.242 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / SU B: 2.854 / SU ML: 0.088 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.138 / ESU R Free: 0.133 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.243
2414
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.206
-
-
-
obs
0.208
47768
99.55 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK