プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1→50 Å / Num. obs: 22253 / % possible obs: 83.2 % / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.068 / Net I/σ(I): 12
反射 シェル
解像度: 1→1.04 Å / 冗長度: 2.2 % / Rmerge(I) obs: 0.212 / Mean I/σ(I) obs: 4.8 / % possible all: 32
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: AB INITIO PHASING / 解像度: 1→22.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 0.522 / SU ML: 0.013 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.03 / ESU R Free: 0.03 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.224
1100
5 %
RANDOM
Rwork
0.202
-
-
-
obs
0.203
21051
83.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK