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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 3e5u | ||||||
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タイトル | OCPA complexed CprK (C200S) | ||||||
![]() | Cyclic nucleotide-binding protein | ||||||
![]() | TRANSCRIPTION REGULATION / CprK / Halorespiration / transcriptional regulator | ||||||
機能・相同性 | ![]() | ||||||
生物種 | ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Levy, C. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Molecular basis of halorespiration control by CprK, a CRP-FNR type transcriptional regulator 著者: Levy, C. / Pike, K. / Heyes, D.J. / Joyce, M.G. / Gabor, K. / Smidt, H. / van der Oost, J. / Leys, D. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 204.3 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 161.7 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 491 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 510 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 44.4 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 63.5 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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2 | ![]()
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単位格子 |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 28379.617 Da / 分子数: 4 / 変異: C200S / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() 株: DCB-2 / 遺伝子: Dhaf_0678 / プラスミド: pTrc99 / 発現宿主: ![]() ![]() #2: 化合物 | ChemComp-3C4 / ( #3: 化合物 | #4: 化合物 | ChemComp-NA / | #5: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.45 Å3/Da / 溶媒含有率: 49.82 % |
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結晶化 | 温度: 277 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 5 詳細: 200mM sodium chloride, 100mM sodium acetate, 20% PEG 6000, pH 5, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 277K |
-データ収集
放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
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放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.83→19.21 Å / Num. all: 99029 / Num. obs: 88661 / Rmerge(I) obs: 0.074 / Net I/σ(I): 7.5 |
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解析
ソフトウェア | 名称: REFMAC / バージョン: 5.2 / 分類: 精密化 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 21.702 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.83→19.21 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.83→1.877 Å / Total num. of bins used: 20
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精密化 TLS | 手法: refined / Refine-ID: X-RAY DIFFRACTION
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精密化 TLSグループ |
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