冗長度: 8.5 % / Av σ(I) over netI: 9.5 / 数: 171627 / Rmerge(I) obs: 0.098 / Χ2: 1.94 / D res high: 2.3 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 20204 / % possible obs: 98.7
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.95
50
100
1
0.077
6.091
8.7
3.93
4.95
100
1
0.066
2.906
9.1
3.44
3.93
100
1
0.076
2.098
9.2
3.12
3.44
100
1
0.094
1.489
9.3
2.9
3.12
100
1
0.134
1.229
9.3
2.73
2.9
100
1
0.198
1.048
9.1
2.59
2.73
99.6
1
0.259
0.938
8.4
2.48
2.59
95
1
0.302
0.909
7.6
2.38
2.48
94.4
1
0.362
0.839
7.2
2.3
2.38
98
1
0.46
0.787
6.7
反射
解像度: 2.3→99 Å / Num. obs: 20508 / % possible obs: 99.4 % / Rmerge(I) obs: 0.062 / Χ2: 1.079 / Net I/σ(I): 18.1
反射 シェル
解像度 (Å)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2.3-2.38
0.352
1924
1.069
1,2
94.7
2.38-2.48
0.309
2038
1.05
1,2
100
2.48-2.59
0.252
2038
1.094
1,2
100
2.59-2.72
0.202
2028
1.135
1,2
100
2.72-2.9
0.151
2043
1.112
1,2
100
2.9-3.12
0.097
2051
1.087
1,2
100
3.12-3.43
0.065
2066
1.083
1,2
100
3.43-3.93
0.049
2077
1.044
1,2
100
3.93-4.95
0.039
2092
1.084
1,2
100
4.95-99
0.037
2151
1.03
1,2
98.8
-
位相決定
位相決定
手法: 多波長異常分散
Phasing set
ID
1
2
3
Phasing MAD set
Clust-ID
Expt-ID
Set-ID
波長 (Å)
F double prime refined
F prime refined
1
3wavelength
1
1.0772
9.58
-6.95
1
3wavelength
2
1.0723
5.35
-19.65
1
3wavelength
3
1.054
6.07
0.04
Phasing MAD set site
ID
Atom type symbol
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
1
Pt
1
0.438
0.398
0.137
0.041
2
Pt
51.56
0.915
0.581
0.044
0.463
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SOLVE
2.03
位相決定
RESOLVE
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.006
データ抽出
ADSC
Quantum
データ収集
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.3→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.903 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.33 / FOM work R set: 0.795 / SU B: 14.462 / SU ML: 0.195 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.383 / ESU R Free: 0.27 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27466
1050
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21089
-
-
-
obs
0.21411
19447
99.65 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK