モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.7 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.75→50 Å / Num. all: 13064 / Num. obs: 13064 / % possible obs: 94.1 % / 冗長度: 15.3 % / Biso Wilson estimate: 23.8 Å2 / Rsym value: 0.076 / Net I/σ(I): 23.9
反射 シェル
解像度: 1.75→1.81 Å / 冗長度: 14.7 % / Mean I/σ(I) obs: 12.7 / Num. unique all: 246 / Rsym value: 0.276 / % possible all: 90.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXE
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.75→27.42 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 2.372 / SU ML: 0.078 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.13 / ESU R Free: 0.123 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24037
641
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.207
-
-
-
obs
0.2086
12408
93.22 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK