プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8123 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→20 Å / Num. obs: 41008 / % possible obs: 99.4 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6 % / Biso Wilson estimate: 20.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 19.9
反射 シェル
解像度: 1.4→1.5 Å / 冗長度: 6.5 % / Rmerge(I) obs: 0.5 / Mean I/σ(I) obs: 4.1 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
分類
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELX
位相決定
SHARP
位相決定
PHENIX
精密化
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.4→19.766 Å / SU ML: 0.17 / σ(F): 1.99 / 位相誤差: 16.75 / 立体化学のターゲット値: ML 詳細: FIRST 13 RESIDUES FROM THE N-TERMINAL WERE NOT MODELLED OWING TO HIGH FLEXIBILITY.
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.1865
2089
5.1 %
Rwork
0.1725
-
-
obs
0.1732
41008
99.48 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.72 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 48.862 Å2 / ksol: 0.422 e/Å3