詳細: 0.5 M NACL, 0.1M BISTRIS-PROPANE PH7.5, 20% PEG4000
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: 回転陽極 / タイプ: ENRAF-NONIUS FR591 / 波長: 1.5418
検出器
タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2009年11月23日 / 詳細: OSMIC MIRRORS
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.74→19.42 Å / Num. obs: 32352 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 6.7 % / Biso Wilson estimate: 14.2 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.12 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度: 1.74→1.83 Å / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.66 / Mean I/σ(I) obs: 2.8 / % possible all: 99.3
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: UNPUBLISHED STRUCTURAL DATA 解像度: 1.74→19.36 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 2.246 / SU ML: 0.071 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.102 / ESU R Free: 0.104 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES 197 - 199 ARE NOT WELL DEFINED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21855
593
1.8 %
RANDOM
Rwork
0.18124
-
-
-
obs
0.18191
31755
99.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK