light-independent chlorophyll biosynthetic process / ferredoxin:protochlorophyllide reductase (ATP-dependent) / photosynthesis, dark reaction / oxidoreductase activity, acting on iron-sulfur proteins as donors / oxidoreductase activity, acting on the CH-CH group of donors, iron-sulfur protein as acceptor / 4 iron, 4 sulfur cluster binding / ATP binding / metal ion binding 類似検索 - 分子機能
温度: 290 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.1 詳細: PROTEIN CONCENTRATION = 10 MG/ML TEMPERATURE = 17 DEGREES C ATMOSPHERE - ANAEROBIC, REDUCING METHOD - HANGING DROP VOLUMES - 3MICROL PROTEIN - 3MICROL RESERVOIR SOLUTION RESERVOIR - 9.5% PEG ...詳細: PROTEIN CONCENTRATION = 10 MG/ML TEMPERATURE = 17 DEGREES C ATMOSPHERE - ANAEROBIC, REDUCING METHOD - HANGING DROP VOLUMES - 3MICROL PROTEIN - 3MICROL RESERVOIR SOLUTION RESERVOIR - 9.5% PEG 6000, 85MM HEPES PH 7.1, CRYOPROTECTANT - 14% MPD, 15% GLYCEROL
-
データ収集
回折
ID
平均測定温度 (K)
Crystal-ID
1
100
1
2
100
1
放射光源
由来
サイト
ビームライン
ID
波長
波長 (Å)
シンクロトロン
ESRF
ID29
1
0.91
シンクロトロン
SOLEIL
PROXIMA1
2
0.9790, 0.9795
検出器
タイプ
ID
検出器
日付
ADSC CCD
1
CCD
2007年12月10日
ADSC CCD
2
CCD
放射
ID
プロトコル
単色(M)・ラウエ(L)
散乱光タイプ
Wavelength-ID
1
MAD
M
x-ray
1
2
MAD
M
x-ray
1
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.91
1
2
0.979
1
3
0.9795
1
反射
解像度: 2.4→25 Å / Num. obs: 54878 / % possible obs: 99.1 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 8.3 % / Biso Wilson estimate: 55.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 20
反射 シェル
解像度: 2.4→2.49 Å / 冗長度: 8.6 % / Rmerge(I) obs: 0.47 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0088
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELX
CDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.4→103.65 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 19.213 / SU ML: 0.193 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.267 / ESU R Free: 0.232 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL B FACTORS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2569
2817
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20127
-
-
-
obs
0.20408
52744
98.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK