プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.97→2 Å / Num. obs: 21967 / % possible obs: 90.9 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 42 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 28.66
反射 シェル
解像度: 1.97→2 Å / 冗長度: 44 % / Rmerge(I) obs: 0.4 / Mean I/σ(I) obs: 3 / % possible all: 97.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.97→24.41 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 9.083 / SU ML: 0.114 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.159 / ESU R Free: 0.149 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS RESIDUAL B FACTORS ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23837
1080
5 %
RANDOM
Rwork
0.19996
-
-
-
obs
0.20193
20518
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK