プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.963 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→29 Å / Num. obs: 44612 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 16
反射 シェル
解像度: 2.1→2.15 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.48 / Mean I/σ(I) obs: 3 / % possible all: 99
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.6.0060 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→29.32 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 7.707 / SU ML: 0.108 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.207 / ESU R Free: 0.16 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS RESIDUAL B FACTORS ONLY. HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT. USED NEW NCSR LOCAL IN REFMAC5
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19612
2379
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16266
-
-
-
obs
0.16437
44612
99.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK