プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.67→65.13 Å / Num. obs: 25080 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 8.4
反射 シェル
解像度: 2.67→2.81 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0089
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.67→84.49 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.935 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.904 / SU B: 22.377 / SU ML: 0.215 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.559 / ESU R Free: 0.297 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES RESIDUAL ONLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24105
1278
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19012
-
-
-
obs
0.19267
23801
99.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK