プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→52.24 Å / Num. obs: 98629 / % possible obs: 96.4 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 13.7
反射 シェル
最高解像度: 2 Å / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.43 / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / % possible all: 95.3
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.5.0088 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→43.9 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 4.824 / SU ML: 0.135 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.219 / ESU R Free: 0.195 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.248
4915
5 %
RANDOM
Rwork
0.18
-
-
-
obs
0.183
93713
96.4 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK