温度: 292 K / pH: 8 詳細: CRYSTALLIZED AT 292K WITH 20 MM TRIS PH 8.0, 30% PEG4000
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データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: SLS / ビームライン: X06SA / 波長: 1
検出器
タイプ: DECTRIS PILATUS 6M / 検出器: PIXEL
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.62→40 Å / Num. obs: 10044 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): -10 / 冗長度: 10.1 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 24.1
反射 シェル
解像度: 2.62→2.77 Å / 冗長度: 10.2 % / Rmerge(I) obs: 0.463 / Mean I/σ(I) obs: 3.9 / % possible all: 99
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多重同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.62→38.78 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / SU B: 23.157 / SU ML: 0.241 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.449 / ESU R Free: 0.303 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27
477
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.216
-
-
-
obs
0.219
9566
99.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK