GA IN THE N-TERMINUS ARE FROM THE HIS TAG, THESE RESIDUES ARE NOT IN Q9TZ51
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.3 Å3/Da / 溶媒含有率: 46 % 解説: THIS IS THE NATIVE DATASET, USED FOR THE REFINEMENT. THE STRUCTURE WAS SOLVED WITH SESAD FROM THE ADDITIONAL DATASET, GIVEN BELOW.
解像度: 1.79→50 Å / Num. obs: 13757 / % possible obs: 97.7 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.4 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 10.13
反射 シェル
解像度: 1.79→1.9 Å / 冗長度: 3.3 % / Rmerge(I) obs: 0.59 / Mean I/σ(I) obs: 2.19 / % possible all: 94.6
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0066
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.8→50.9 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 6.542 / SU ML: 0.092 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.275 / ESU R Free: 0.143 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES 42, 43, 44 AND 45 ARE DISORDERED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.251
690
5 %
RANDOM
Rwork
0.171
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-
-
obs
0.174
13156
99.4 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK