モノクロメーター: SILICON / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→97.13 Å / Num. obs: 18073 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 2.5 / 冗長度: 2.73 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 17.7
反射 シェル
解像度: 1.8→1.85 Å / 冗長度: 2.71 % / Rmerge(I) obs: 0.27 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.8→97.13 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 6.656 / SU ML: 0.104 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.153 / ESU R Free: 0.137 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.238
921
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.206
-
-
-
obs
0.207
17152
99.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK