プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.984 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.15→28 Å / Num. obs: 49876 / % possible obs: 91.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 7.5 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 22.25
反射 シェル
解像度: 1.15→1.25 Å / 冗長度: 3.3 % / Rmerge(I) obs: 0.21 / Mean I/σ(I) obs: 6.12 / % possible all: 72.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多重同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.15→19.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 0.739 / SU ML: 0.016 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.032 / ESU R Free: 0.031 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.155
2612
5 %
RANDOM
Rwork
0.137
-
-
-
obs
0.138
49720
96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK