プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97872 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.8→83 Å / Num. obs: 57944 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 10.3 % / Biso Wilson estimate: 40.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.1 / Net I/σ(I): 20.6
反射 シェル
解像度: 2.8→2.88 Å / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.26 / Mean I/σ(I) obs: 6.4 / % possible all: 96.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0046
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.81→83.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.932 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.873 / SU B: 13.311 / SU ML: 0.258 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.381 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.233
2936
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.169
-
-
-
obs
0.172
54880
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK