モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.072 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 61003 / % possible obs: 96.4 % / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.119 / Net I/σ(I): 9.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
% possible all
2-2.07
2.4
0.423
76.5
2.07-2.15
2.6
0.375
94.1
2.15-2.25
2.8
0.306
98.7
2.25-2.37
2.9
0.26
99.2
2.37-2.52
2.9
0.221
99.1
2.52-2.71
2.9
0.187
99.2
2.71-2.99
2.9
0.154
99.1
2.99-3.42
3
0.148
99.7
3.42-4.31
3
0.117
99.3
4.31-50
3.1
0.078
99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.2.0019
精密化
PDB_EXTRACT
2
データ抽出
CBASS
データ収集
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 7.646 / SU ML: 0.111 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.195 / ESU R Free: 0.165 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23045
3078
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19595
-
-
-
obs
0.19769
57400
96.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK