THE FIRST TWO RESIDUES IN THE SEQRES ARE FROM THE CLONING PROCEDURE RESULTING FROM THE RESTRICTION ...THE FIRST TWO RESIDUES IN THE SEQRES ARE FROM THE CLONING PROCEDURE RESULTING FROM THE RESTRICTION ENZYME SITE.
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 3
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試料調製
結晶
マシュー密度: 1.9 Å3/Da / 溶媒含有率: 35 %
結晶化
pH: 7.8 / 詳細: 0.1 M TRIS-HCL(PH 7.8), 30% PEG 4000,0.2 M MGCL2
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1271 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→44.6 Å / Num. obs: 15232 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6.9 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 18.4
反射 シェル
解像度: 2→2.07 Å / 冗長度: 6.5 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 4.4 / % possible all: 97.7
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0003
精密化
SCALEPACK
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→44.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 7.632 / SU ML: 0.114 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.18 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.233
753
5 %
RANDOM
Rwork
0.183
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-
-
obs
0.185
14442
99 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK