モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.55→43.85 Å / Num. obs: 17450 / % possible obs: 97.7 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 20.6
反射 シェル
解像度: 1.55→1.58 Å / 冗長度: 1.9 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Mean I/σ(I) obs: 11.7 / % possible all: 82.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER / 解像度: 1.55→43.85 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.971 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU ML: 0.045 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.103 / ESU R Free: 0.085 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES 1 AND 122-134 ARE NOT OBSERVED. RESIDUES 97-101 ARE MODELED IN A DOUBLE MAIN-CHAIN CONFORMATION.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.202
836
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.147
-
-
-
obs
0.15
16211
97.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK