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基本情報
| 登録情報 | データベース: PDB / ID: 220d | ||||||||||||||||||
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| タイトル | INFLUENCE OF COUNTER-IONS ON THE CRYSTAL STRUCTURES OF DNA DECAMERS: BINDING OF [CO(NH3)6]3+ AND BA2+ TO A-DNA | ||||||||||||||||||
要素 | DNA (5'-D(* キーワードDNA / A-DNA / DOUBLE HELIX | 機能・相同性 | : / DNA | 機能・相同性情報手法 | X線回折 / 解像度: 2 Å データ登録者Gao, Y.-G. / Robinson, H. / Van Boom, J.H. / Wang, A.H.-J. | 引用 ジャーナル: Biophys.J. / 年: 1995タイトル: Influence of counter-ions on the crystal structures of DNA decamers: binding of [Co(NH3)6]3+ and Ba2+ to A-DNA. 著者: Gao, Y.G. / Robinson, H. / van Boom, J.H. / Wang, A.H. 履歴 |
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構造の表示
| 構造ビューア | 分子: Molmil Jmol/JSmol |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
| PDBx/mmCIF形式 | 220d.cif.gz | 17 KB | 表示 | PDBx/mmCIF形式 |
|---|---|---|---|---|
| PDB形式 | pdb220d.ent.gz | 9.7 KB | 表示 | PDB形式 |
| PDBx/mmJSON形式 | 220d.json.gz | ツリー表示 | PDBx/mmJSON形式 | |
| その他 | その他のダウンロード |
-検証レポート
| 文書・要旨 | 220d_validation.pdf.gz | 320.9 KB | 表示 | wwPDB検証レポート |
|---|---|---|---|---|
| 文書・詳細版 | 220d_full_validation.pdf.gz | 334.4 KB | 表示 | |
| XML形式データ | 220d_validation.xml.gz | 3.2 KB | 表示 | |
| CIF形式データ | 220d_validation.cif.gz | 4.1 KB | 表示 | |
| アーカイブディレクトリ | https://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/20/220d ftp://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/20/220d | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
| 登録構造単位 | ![]()
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| 1 | ![]()
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| 単位格子 |
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要素
| #1: DNA鎖 | 分子量: 3045.992 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 |
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| #2: 化合物 | ChemComp-BA / |
| #3: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
| 実験 | 手法: X線回折 |
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試料調製
| 結晶 | マシュー密度: 2.98 Å3/Da / 溶媒含有率: 58.78 % | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 結晶化 | 手法: 蒸気拡散法 / pH: 6.5 / 詳細: pH 6.50, VAPOR DIFFUSION | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 溶液の組成 |
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| 結晶化 | *PLUS 手法: unknown | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
| 回折 | Ambient temp details: ROOM TEMPERATURE |
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| 放射光源 | 由来: 回転陽極 / タイプ: RIGAKU RU200 |
| 検出器 | タイプ: RIGAKU RAXIS IIC / 検出器: IMAGE PLATE |
| 放射 | 散乱光タイプ: x-ray |
| 放射波長 | 相対比: 1 |
| 反射 | 最高解像度: 2 Å / Num. obs: 1817 |
| 反射 | *PLUS Rmerge(I) obs: 0.065 |
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解析
| ソフトウェア | 名称: NUCLSQ / 分類: 精密化 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 精密化 | 最高解像度: 2 Å / σ(F): 4 /
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| 精密化ステップ | サイクル: LAST / 最高解像度: 2 Å
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| 拘束条件 |
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| 精密化 | *PLUS 最高解像度: 2 Å / σ(F): 4 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 溶媒の処理 | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 原子変位パラメータ | *PLUS |
ムービー
コントローラー
万見について




X線回折
引用












PDBj





