プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→25 Å / Num. obs: 54971 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.074 / Net I/σ(I): 16.1
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.1.19 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→19.65 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 3.157 / SU ML: 0.09 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.151 / ESU R Free: 0.15 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: RESIDUES A1 - A19 AND B1 - B19 ARE DISORDERED. LOOPS A205 - A217 AND B205 - B217 WERE ALS NOT VISIBLE IN THE ELECTRON DENSITY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.231
1544
2.8 %
RANDOM
Rwork
0.178
-
-
-
obs
0.179
53425
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK