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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1n9e | |||||||||
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タイトル | Crystal structure of Pichia pastoris Lysyl Oxidase PPLO | |||||||||
![]() | LYSYL OXIDASE | |||||||||
![]() | OXIDOREDUCTASE / AMINE OXIDASE / QUINOPROTEIN / TOPAQUINONE ENZYME / TPQ | |||||||||
機能・相同性 | ![]() 酸化還元酵素; CH-NH2に対し酸化酵素として働く; 酸素を用いる / diamine oxidase activity / primary methylamine oxidase activity / amine metabolic process / quinone binding / copper ion binding / plasma membrane 類似検索 - 分子機能 | |||||||||
生物種 | ![]() | |||||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | |||||||||
![]() | Guss, J.M. / Duff, A.P. | |||||||||
![]() | ![]() タイトル: The Crystal Structure of Pichia pastoris Lysyl Oxidase 著者: Duff, A.P. / Cohen, A.E. / Ellis, P.J. / Kuchar, J.A. / Langley, D.B. / Shepard, E.M. / Dooley, D.M. / Freeman, H.C. / Guss, J.M. | |||||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 695.6 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 565.5 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 1.8 MB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 1.8 MB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 141.9 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 219.2 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
関連構造データ | ![]() 1oacS S: 精密化の開始モデル |
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類似構造データ |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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2 | ![]()
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単位格子 |
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要素
-タンパク質 , 1種, 4分子 ABCD
#1: タンパク質 | 分子量: 89800.625 Da / 分子数: 4 / 由来タイプ: 天然 / 由来: (天然) ![]() 参照: GenBank: 13936870, UniProt: Q96X16*PLUS, protein-lysine 6-oxidase |
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-糖 , 2種, 20分子 
#2: 多糖 | 2-acetamido-2-deoxy-beta-D-glucopyranose-(1-4)-2-acetamido-2-deoxy-beta-D-glucopyranose #3: 糖 | ChemComp-NAG / |
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-非ポリマー , 4種, 4021分子 






#4: 化合物 | ChemComp-CU / #5: 化合物 | ChemComp-CA / #6: 化合物 | ChemComp-SO4 / #7: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.34 Å3/Da / 溶媒含有率: 47 % | ||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法 / pH: 7 詳細: 25% PEG 4000, 0.175M ammonium sulfate, 15% MPD, VAPOR DIFFUSION, temperature 298K | ||||||||||||||||||||
結晶化 | *PLUS 温度: 277 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / 詳細: Lee, M., (2002) Acta Cryst., D58, 2177. | ||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2001年12月17日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.99184 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.65→24.6 Å / Num. obs: 419014 / % possible obs: 94.7 % / 冗長度: 2.8 % / Rmerge(I) obs: 0.062 / Net I/σ(I): 9.1 |
反射 シェル | 解像度: 1.65→1.69 Å / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.42 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 1.65 Å / 最低解像度: 24.6 Å / 冗長度: 2.8 % / Rmerge(I) obs: 0.06 |
反射 シェル | *PLUS 最低解像度: 1.68 Å / % possible obs: 90.7 % / 冗長度: 2.6 % / Num. unique obs: 28231 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]() 開始モデル: PDB ENTRY 1OAC 解像度: 1.65→24.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / SU B: 1.493 / SU ML: 0.05 / 交差検証法: THROUGHOUT, EXCEPT FINAL ROUND / ESU R: 0.082 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: THE STRUCTURE WAS ALSO REFINED WITH CNS VER.1.1 SO4 811, 821, 831 AND 841 ARE MODELLED WITH ZERO OCCUPANCY. ELECTRON DENSITY FOR THESE IONS STRONGLY SUGGESTS THEIR PRESENCE, HOWEVER, THE ...詳細: THE STRUCTURE WAS ALSO REFINED WITH CNS VER.1.1 SO4 811, 821, 831 AND 841 ARE MODELLED WITH ZERO OCCUPANCY. ELECTRON DENSITY FOR THESE IONS STRONGLY SUGGESTS THEIR PRESENCE, HOWEVER, THE MODELLED POSITIONS ARE NOT STABLE IN POSITIONAL REFINEMENT, AND RESULTING REFINED POSITIONS HAVE UNACCEPTABLE VAN DER WAALS VIOLATIONS WITH NEIGHBOURING PROTEIN ATOMS. FREE_R WAS MONITORED IN ALL ROUNDS OF REFINEMENT EXCEPT THE LAST. THE TEST SET SIZE WAS 5%, AND WAS SELECTED RANDOMLY. IN THE LAST ROUND OF REFINEMENT, THE MODEL WAS REFINED AGAINST ALL OF THE DATA TO PRODUCE THE FINAL MODEL.
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 17.86 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.65→24.6 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.65→1.69 Å / Total num. of bins used: 20 /
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ソフトウェア | *PLUS バージョン: 5 / 分類: refinement | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS 最低解像度: 24.6 Å / % reflection Rfree: 5 % / Rfactor all: 0.16 / Rfactor Rfree: 0.187 / Rfactor Rwork: 0.161 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS 最低解像度: 1.68 Å / Rfactor Rwork: 0.24 / Rfactor obs: 0.23 |