ソフトウェア 名称 バージョン 分類 REFMAC5.1.24精密化 HKL-2000データ削減 CNS精密化 WARPモデル構築 d*TREKデータスケーリング d*TREKデータ削減 HKL-2000データスケーリング CNS位相決定 ARP/wARPモデル構築
精密化 解像度 : 1.6→129.1 Å / Cor.coef. Fo :Fc : 0.962 / Cor.coef. Fo :Fc free : 0.952 / SU B : 1.703 / SU ML : 0.06 / 交差検証法 : THROUGHOUT / ESU R : 0.095 / ESU R Free : 0.096 / 立体化学のターゲット値 : MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細 : HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONSRfactor 反射数 %反射 Selection details Rfree 0.21871 2248 5.1 % RANDOM Rwork 0.18284 - - - obs 0.18461 42215 94.81 % -
溶媒の処理 イオンプローブ半径 : 0.8 Å / 減衰半径 : 0.8 Å / VDWプローブ半径 : 1.4 Å / 溶媒モデル : BABINET MODEL WITH MASK原子変位パラメータ Biso mean : 14.768 Å2 Baniso -1 Baniso -2 Baniso -3 1- -0.04 Å2 -0.02 Å2 0 Å2 2- - -0.04 Å2 0 Å2 3- - - 0.05 Å2
精密化ステップ サイクル : LAST / 解像度 : 1.6→129.1 Åタンパク質 核酸 リガンド 溶媒 全体 原子数 2679 0 35 247 2961
拘束条件 大きな表を表示 (5 x 25) 大きな表を隠す Refine-ID タイプ Dev ideal Dev ideal target 数 X-RAY DIFFRACTION r_bond_refined_d0.02 0.021 2762 X-RAY DIFFRACTION r_bond_other_d0.001 0.02 2551 X-RAY DIFFRACTION r_angle_refined_deg1.885 1.955 3754 X-RAY DIFFRACTION r_angle_other_deg0.856 3 5920 X-RAY DIFFRACTION r_dihedral_angle_1_deg6.285 5 339 X-RAY DIFFRACTION r_dihedral_angle_2_degX-RAY DIFFRACTION r_chiral_restr0.107 0.2 443 X-RAY DIFFRACTION r_gen_planes_refined0.007 0.02 3019 X-RAY DIFFRACTION r_gen_planes_other0.003 0.02 537 X-RAY DIFFRACTION r_nbd_refined0.24 0.3 539 X-RAY DIFFRACTION r_nbd_other0.266 0.3 2945 X-RAY DIFFRACTION r_nbtor_other0.091 0.5 1627 X-RAY DIFFRACTION r_xyhbond_nbd_refined0.171 0.5 306 X-RAY DIFFRACTION r_xyhbond_nbd_otherX-RAY DIFFRACTION r_symmetry_vdw_refined0.198 0.3 33 X-RAY DIFFRACTION r_symmetry_vdw_other0.329 0.3 109 X-RAY DIFFRACTION r_symmetry_hbond_refined0.278 0.5 22 X-RAY DIFFRACTION r_symmetry_hbond_otherX-RAY DIFFRACTION r_mcbond_it0.886 1.5 1719 X-RAY DIFFRACTION r_mcangle_it1.487 2 2795 X-RAY DIFFRACTION r_scbond_it2.595 3 1043 X-RAY DIFFRACTION r_scangle_it3.641 4.5 959 X-RAY DIFFRACTION r_rigid_bond_restrX-RAY DIFFRACTION r_sphericity_freeX-RAY DIFFRACTION r_sphericity_bonded
LS精密化 シェル 解像度 : 1.6→1.642 Å / Total num. of bins used : 20 / Rfactor 反射数 Rfree 0.271 176 Rwork 0.206 2876
精密化 TLS 手法 : refined / Refine-ID : X-RAY DIFFRACTION
大きな表を表示 (25 x 3) 大きな表を隠す ID L11 (°2 )L12 (°2 )L13 (°2 )L22 (°2 )L23 (°2 )L33 (°2 )S11 (Å °)S12 (Å °)S13 (Å °)S21 (Å °)S22 (Å °)S23 (Å °)S31 (Å °)S32 (Å °)S33 (Å °)T11 (Å2 )T12 (Å2 )T13 (Å2 )T22 (Å2 )T23 (Å2 )T33 (Å2 )Origin x (Å)Origin y (Å)Origin z (Å)1 1.2326 -0.2393 0.1305 1.2564 0.0632 2.5274 -0.0314 -0.204 -0.0731 0.2121 -0.0058 0.1123 0.0745 -0.0532 0.0372 0.0799 -0.0047 0.0455 0.0994 -0.0011 0.1154 17.8553 14.0231 48.2434 2 0.943 0.2865 -0.4649 1.2244 -0.0371 2.4576 -0.0396 0.0791 0.0268 -0.0657 -0.0012 0.1079 0.0413 -0.1745 0.0408 0.0136 -0.011 -0.0294 0.0261 -0.0014 0.1001 18.1766 12.9952 14.6819 3 0.3565 -0.0275 -0.1816 0.3484 0.1004 2.0293 -0.0206 -0.0496 -0.0284 0.0433 -0.0046 0.1093 0.1077 -0.101 0.0252 0.1456 -0.0161 -0.0008 0.164 0.0225 0.2571 17.7346 12.3633 28.7149
精密化 TLSグループ ID Refine-ID Refine TLS-ID Auth asym-ID Label asym-ID Auth seq-ID Label seq-ID 1 X-RAY DIFFRACTION 1 AA3 - 172 3 - 172 2 X-RAY DIFFRACTION 2 BB3 - 172 2 - 172 3 X-RAY DIFFRACTION 3 A - B M - N 1202 - 1336 1 - 133
精密化 *PLUS
最低解像度 : 129.1 Å / Rfactor Rfree : 0.219 / Rfactor Rwork : 0.185 溶媒の処理 *PLUS
原子変位パラメータ *PLUS
拘束条件 *PLUS
Refine-ID タイプ Dev ideal Dev ideal target X-RAY DIFFRACTION r_bond_d0.02 0.021 X-RAY DIFFRACTION r_angle_dX-RAY DIFFRACTION r_angle_deg1.885 1.955 X-RAY DIFFRACTION r_dihedral_angle_dX-RAY DIFFRACTION r_dihedral_angle_deg6.285 5 X-RAY DIFFRACTION r_plane_restr0.007 0.02 X-RAY DIFFRACTION r_chiral_restr0.2
LS精密化 シェル *PLUS
最高解像度 : 1.6 Å / 最低解像度 : 1.64 Å / Num. reflection Rwork : 2867