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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1gqu | ||||||||||||||||||
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タイトル | Crystal structure of an alternating A-T oligonucleotide fragment with Hoogsteen base pairing | ||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'(*![]() DNA / DNA/RNA / NEW DNA STRUCTURE / HOOGSTEEN BASE PAIRING | 機能・相同性 | DNA | ![]() 手法 | ![]() ![]() ![]() ![]() Abrescia, N.G.A. / Thompson, A. / Huynh-Dinh, T. / Subirana, J.A. | ![]() ![]() タイトル: Crystal Structure of an Antiparallel DNA Fragment with Hoogsteen Base Pairing 著者: Abrescia, N.G.A. / Thompson, A. / Huynh-Dinh, T. / Subirana, J.A. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 20 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 14 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 401.5 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 401.4 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 4 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 4.8 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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2 | ![]()
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単位格子 |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 1872.111 Da / 分子数: 4 / 由来タイプ: 合成 #2: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.52 Å3/Da / 溶媒含有率: 51.2 % / 解説: FOR MORE DETAILS ON DATA STATISTICS SEE PAPER | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | pH: 6 / 詳細: pH 6.00 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
結晶化 | *PLUS 温度: 13 ℃ / pH: 6 / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 110 K | |||||||||
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() | |||||||||
検出器 | タイプ: MARCCD / 検出器: CCD / 日付: 2001年3月15日 | |||||||||
放射 | プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray | |||||||||
放射波長 |
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反射 | 解像度: 2.5→30 Å / Num. obs: 2591 / % possible obs: 90.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 10.3 % / Rmerge(I) obs: 0.06 | |||||||||
反射 シェル | 最高解像度: 2.5 Å / % possible all: 68.6 | |||||||||
反射 | *PLUS 最低解像度: 30 Å / 冗長度: 10.4 % / Rmerge(I) obs: 0.06 | |||||||||
反射 シェル | *PLUS % possible obs: 68.6 % / Rmerge(I) obs: 0.175 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | 溶媒モデル: FLAT MODEL | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.5→15 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.5→2.61 Å / Num. reflection Rwork: 273 / Total num. of bins used: 8 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Xplor file |
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精密化 | *PLUS Rfactor Rfree: 0.234 / Rfactor Rwork: 0.22 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS |