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-基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1f7v | ||||||
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タイトル | CRYSTAL STRUCTURE OF YEAST ARGINYL-TRNA SYNTHETASE COMPLEXED WITH THE TRNAARG | ||||||
要素 |
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キーワード | LIGASE/RNA / tRNA-protein complex / aminoacylation / arginyl-tRNA synthetase / LIGASE-RNA COMPLEX | ||||||
機能・相同性 | 機能・相同性情報 arginine-tRNA ligase / arginine-tRNA ligase activity / arginyl-tRNA aminoacylation / sequence-specific mRNA binding / mitochondrial translation / mitochondrion / ATP binding / cytosol 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | Saccharomyces cerevisiae (パン酵母) | ||||||
手法 | X線回折 / シンクロトロン / 解像度: 2.9 Å | ||||||
データ登録者 | Delagoutte, B. / Moras, D. / Cavarelli, J. | ||||||
引用 | ジャーナル: EMBO J. / 年: 2000 タイトル: tRNA aminoacylation by arginyl-tRNA synthetase: induced conformations during substrates binding 著者: Delagoutte, B. / Moras, D. / Cavarelli, J. #1: ジャーナル: Acta Crystallogr.,Sect.D / 年: 2000 タイトル: Crystallization and preliminary X-ray crystallographic analysis of yeast arginyl-tRNA synthetase - yeast tRNAArg complexes 著者: Delagoutte, B. / Keith, G. / Moras, D. / Cavarelli, J. | ||||||
履歴 |
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-構造の表示
構造ビューア | 分子: MolmilJmol/JSmol |
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-ダウンロードとリンク
-ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | 1f7v.cif.gz | 179.2 KB | 表示 | PDBx/mmCIF形式 |
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PDB形式 | pdb1f7v.ent.gz | 136.3 KB | 表示 | PDB形式 |
PDBx/mmJSON形式 | 1f7v.json.gz | ツリー表示 | PDBx/mmJSON形式 | |
その他 | その他のダウンロード |
-検証レポート
文書・要旨 | 1f7v_validation.pdf.gz | 463.8 KB | 表示 | wwPDB検証レポート |
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文書・詳細版 | 1f7v_full_validation.pdf.gz | 486.3 KB | 表示 | |
XML形式データ | 1f7v_validation.xml.gz | 28.2 KB | 表示 | |
CIF形式データ | 1f7v_validation.cif.gz | 38.9 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | https://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/f7/1f7v ftp://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/f7/1f7v | HTTPS FTP |
-関連構造データ
-リンク
-集合体
登録構造単位 |
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1 |
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単位格子 |
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-要素
#1: RNA鎖 | 分子量: 24573.770 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 詳細: this sequence occurs naturally in yeast Saccharomyces cerevisae |
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#2: タンパク質 | 分子量: 69617.867 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) Saccharomyces cerevisiae (パン酵母) プラスミド: PTRC99 / 発現宿主: Escherichia coli (大腸菌) / 参照: UniProt: Q05506, arginine-tRNA ligase |
#3: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1 |
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-試料調製
結晶 | マシュー密度: 3.41 Å3/Da / 溶媒含有率: 63.91 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 277 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.5 詳細: 2.1 M (NH4)2SO4, hexanediol, pH 6.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP at 277K | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS 詳細: Delagoutte, B., (2000) Acta Crystallogr., Sect.D, 56, 492. | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 110 K |
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放射光源 | 由来: シンクロトロン / サイト: ESRF / ビームライン: ID14-3 / 波長: 0.931 |
検出器 | タイプ: ADSC QUANTUM 4 / 検出器: CCD / 日付: 1999年11月25日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.931 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.9→25 Å / Num. all: 28856 / Num. obs: 28856 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 7 % / Biso Wilson estimate: 56.9 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.056 / Net I/σ(I): 30.2 |
反射 シェル | 解像度: 2.9→3 Å / 冗長度: 6.9 % / Rmerge(I) obs: 0.262 / Num. unique all: 2835 / % possible all: 100 |
反射 | *PLUS |
-解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 2.9→24.87 Å / Rfactor Rfree error: 0.005 / Data cutoff high absF: 2531107.58 / Data cutoff low absF: 0 / Isotropic thermal model: RESTRAINED / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / 立体化学のターゲット値: Engh & Huber
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溶媒の処理 | 溶媒モデル: FLAT MODEL / Bsol: 26.52 Å2 / ksol: 0.338 e/Å3 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 39.4 Å2
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Refine analyze |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.9→24.87 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.9→3.08 Å / Rfactor Rfree error: 0.016 / Total num. of bins used: 6
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ソフトウェア | *PLUS 名称: CNS / バージョン: 1 / 分類: refinement | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS σ(F): 0 / % reflection Rfree: 10 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS Biso mean: 39.4 Å2 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.36 / % reflection Rfree: 10.5 % / Rfactor Rwork: 0.295 |