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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 123d | ||||||||||||||||||
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タイトル | DNA HELIX STRUCTURE AND REFINEMENT ALGORITHM: COMPARISON OF MODELS FOR D(CCAGGCM==5==CTGG) DERIVED FROM NUCLSQ, TNT, AND X-PLOR | ||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'-D(*![]() DNA / B-DNA / DOUBLE HELIX / MODIFIED | 機能・相同性 | DNA | ![]() 手法 | ![]() ![]() Hahn, M. / Heinemann, U. | ![]() ![]() タイトル: DNA helix structure and refinement algorithm: comparison of models for d(CCAGGCm5CTGG) derived from NUCLSQ, TNT and X-PLOR. 著者: Hahn, M. / Heinemann, U. #1: ![]() タイトル: C-C-A-G-G-C-M5C-T-G-G: Helical Fine Structure, Hydration, and Comparison with C-C-A-G-G-C-C-T-G-G 著者: Heinemann, U. / Hahn, M. #2: ![]() タイトル: Double Helix Conformation, Groove Dimensions and Ligand Binding Potential of a G/C-Stretch in B-DNA 著者: Heinemann, U. / Alings, C. / Bansal, M. #3: ![]() タイトル: The Conformation of a B-DNA Decamer Is Mainly Determined by Its Sequence and Not by Crystal Environment 著者: Heinemann, U. / Alings, C. #4: ![]() タイトル: Crystallographic Study of One Turn of G/C-Rich B-DNA 著者: Heinemann, U. / Alings, C. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 23.3 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 14.8 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 3060.020 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 合成 #2: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.34 Å3/Da / 溶媒含有率: 47.49 % | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 277 K / 手法: microdialysis / pH: 7.5 / 詳細: pH 7.50, MICRODIALYSIS, temperature 277.00K | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS 温度: 4 ℃ / pH: 7.5 / 詳細: Heinemann, U., (1991) Embo J., 10, 35. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
放射光源 | 由来: ![]() |
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検出器 | タイプ: ENRAF-NONIUS CAD4 / 検出器: DIFFRACTOMETER |
放射 | 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1.5418 Å / 相対比: 1 |
反射 | 最高解像度: 1.75 Å / Num. all: 7209 / Num. obs: 4704 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 1.7 Å / 最低解像度: 20 Å |
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解析
ソフトウェア | 名称: ![]() | |||||||||||||||||||||
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精密化 | 解像度: 1.7→8 Å / σ(F): 2 /
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.7→8 Å
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精密化 | *PLUS 最高解像度: 1.7 Å / 最低解像度: 20 Å / Num. reflection obs: 3799 / σ(F): 2 / Rfactor obs: 0.191 | |||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | |||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | |||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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