プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.92 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.14→33 Å / Num. obs: 21713 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 2.6 % / Net I/σ(I): 9.6
反射 シェル
解像度: 2.14→2.2 Å / 冗長度: 5 % / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
MOSFLM
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.14→92.12 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 10.099 / SU ML: 0.134 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.194 / ESU R Free: 0.172 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22949
1078
5 %
RANDOM
Rwork
0.18718
-
-
-
obs
0.18932
20634
99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK