プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 3.8 % / Av σ(I) over netI: 7.8 / 数: 108377 / Rsym value: 0.046 / D res high: 1.69 Å / D res low: 25.125 Å / Num. obs: 28319 / % possible obs: 98.5
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
5.34
25.12
99.1
1
0.039
0.039
3.5
3.78
5.34
100
1
0.035
0.035
3.8
3.09
3.78
99.9
1
0.035
0.035
3.9
2.67
3.09
99.8
1
0.041
0.041
3.9
2.39
2.67
99.3
1
0.045
0.045
3.9
2.18
2.39
99
1
0.052
0.052
3.9
2.02
2.18
98.8
1
0.063
0.063
3.9
1.89
2.02
98.3
1
0.08
0.08
3.8
1.78
1.89
97.2
1
0.097
0.097
3.8
1.69
1.78
96.6
1
0.131
0.131
3.7
反射
解像度: 1.69→26.43 Å / Num. all: 28750 / Num. obs: 28319 / % possible obs: 98.5 % / 冗長度: 3.8 % / Biso Wilson estimate: 15.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.046 / Rsym value: 0.046 / Net I/σ(I): 18
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.69-1.78
3.7
0.131
5.4
14846
3976
0.131
96.6
1.78-1.89
3.8
0.097
7.4
14489
3811
0.097
97.2
1.89-2.02
3.8
0.08
8.3
13821
3597
0.08
98.3
2.02-2.18
3.9
0.063
10.3
13170
3406
0.063
98.8
2.18-2.39
3.9
0.052
12.2
12243
3151
0.052
99
2.39-2.67
3.9
0.045
13.9
11172
2863
0.045
99.3
2.67-3.09
3.9
0.041
14.7
9978
2559
0.041
99.8
3.09-3.78
3.9
0.035
15.4
8548
2205
0.035
99.9
3.78-5.34
3.8
0.035
10.4
6557
1733
0.035
100
5.34-26.43
3.5
0.039
8.4
3553
1018
0.039
99.1
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 55.83 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
解像度: 1.69→26.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / WRfactor Rfree: 0.1926 / WRfactor Rwork: 0.1554 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.9028 / SU B: 2.57 / SU ML: 0.049 / SU R Cruickshank DPI: 0.0947 / SU Rfree: 0.0958 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.095 / ESU R Free: 0.096 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES: WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1916
1433
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1546
-
-
-
all
0.1564
28774
-
-
obs
0.1564
28265
98.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK