プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.0665 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→20 Å / Num. obs: 80522 / % possible obs: 94.8 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.53 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 15.2
反射 シェル
解像度: 1.4→1.5 Å / 冗長度: 3.55 % / Rmerge(I) obs: 0.64 / Mean I/σ(I) obs: 2.02 / % possible all: 90.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: APO STRUCTURE 解像度: 1.8→35.79 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.91 / SU B: 3.025 / SU ML: 0.095 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.148 / ESU R Free: 0.147 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24957
1986
5 %
RANDOM
Rwork
0.19231
-
-
-
obs
0.19514
37717
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK