プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9173 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 6.7 % / Av σ(I) over netI: 9.6 / 数: 174868 / Rsym value: 0.063 / D res high: 1.388 Å / D res low: 28.514 Å / Num. obs: 25967 / % possible obs: 96.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
4.39
28.51
99.5
1
0.03
0.03
7.1
3.1
4.39
92.4
1
0.033
0.033
6.1
2.53
3.1
99.6
1
0.044
0.044
7
2.19
2.53
97.8
1
0.053
0.053
6.9
1.96
2.19
93.7
1
0.062
0.062
6.1
1.79
1.96
99.2
1
0.089
0.089
6.9
1.66
1.79
99
1
0.119
0.119
7.1
1.55
1.66
94.9
1
0.148
0.148
6.7
1.46
1.55
96.4
1
0.184
0.184
6.5
1.39
1.46
96.9
1
0.239
0.239
6.9
反射
解像度: 1.388→29.3 Å / Num. all: 26798 / Num. obs: 25967 / % possible obs: 96.9 % / 冗長度: 6.7 % / Biso Wilson estimate: 8.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.063 / Rsym value: 0.063 / Net I/σ(I): 18.6
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.39-1.46
6.9
0.239
3.1
25420
3709
0.239
96.9
1.46-1.55
6.5
0.184
4
22785
3525
0.184
96.4
1.55-1.66
6.7
0.148
5
21623
3231
0.148
94.9
1.66-1.79
7.1
0.119
6.1
22720
3187
0.119
99
1.79-1.96
6.9
0.089
8.1
20449
2960
0.089
99.2
1.96-2.19
6.1
0.062
11.4
15308
2514
0.062
93.7
2.19-2.53
6.9
0.053
13.1
16217
2337
0.053
97.8
2.53-3.1
7
0.044
15.4
14449
2057
0.044
99.6
3.1-4.39
6.1
0.033
18.1
9121
1488
0.033
92.4
4.39-28.514
7.1
0.03
19.7
6776
959
0.03
99.5
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 55.02 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
解像度: 1.39→29.3 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.97 / WRfactor Rfree: 0.1356 / WRfactor Rwork: 0.1071 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.9416 / SU B: 1.293 / SU ML: 0.024 / SU R Cruickshank DPI: 0.0532 / SU Rfree: 0.0481 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.048 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS; U VALUES: REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1419
1307
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1107
-
-
-
all
0.1124
26798
-
-
obs
0.1124
25820
96.35 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK