プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97924 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 3.9 % / Av σ(I) over netI: 5.4 / 数: 233131 / Rsym value: 0.091 / D res high: 2.09 Å / D res low: 36.263 Å / Num. obs: 59553 / % possible obs: 98.2
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
6.61
36.26
98.3
1
0.04
0.04
3.8
4.67
6.61
99.3
1
0.062
0.062
3.9
3.82
4.67
99.1
1
0.063
0.063
3.9
3.3
3.82
99.1
1
0.066
0.066
3.9
2.96
3.3
98.8
1
0.089
0.089
3.9
2.7
2.96
98.4
1
0.127
0.127
3.9
2.5
2.7
97.9
1
0.191
0.191
3.9
2.34
2.5
97.8
1
0.299
0.299
3.9
2.2
2.34
97.9
1
0.468
0.468
3.9
2.09
2.2
97.1
1
0.755
0.755
3.9
反射
解像度: 2.09→36.263 Å / Num. all: 60645 / Num. obs: 59553 / % possible obs: 98.2 % / 冗長度: 3.9 % / Biso Wilson estimate: 36.3 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.091 / Rsym value: 0.091 / Net I/σ(I): 8.4
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
2.09-2.2
3.9
0.755
1
33838
8602
0.755
97.1
2.2-2.34
3.9
0.468
1.6
31911
8123
0.468
97.9
2.34-2.5
3.9
0.299
2.5
30386
7719
0.299
97.8
2.5-2.7
3.9
0.191
3.9
28066
7140
0.191
97.9
2.7-2.96
3.9
0.127
5.5
26053
6638
0.127
98.4
2.96-3.3
3.9
0.089
7.4
23595
6023
0.089
98.8
3.3-3.82
3.9
0.066
8.9
20835
5338
0.066
99.1
3.82-4.67
3.9
0.063
8.9
17533
4515
0.063
99.1
4.67-6.61
3.9
0.062
7.9
13574
3516
0.062
99.3
6.61-36.263
3.8
0.04
13.5
7340
1939
0.04
98.3
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 40.13 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
解像度: 2.09→36.263 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / WRfactor Rfree: 0.2287 / WRfactor Rwork: 0.1875 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.87 / SU B: 8.663 / SU ML: 0.117 / SU R Cruickshank DPI: 0.1611 / SU Rfree: 0.1498 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.15 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES: WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2193
1988
3.3 %
RANDOM
Rwork
0.1809
-
-
-
all
0.1822
60691
-
-
obs
0.1822
59520
98.07 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK