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-基本情報
登録情報 | データベース: EMDB / ID: EMD-31746 | |||||||||
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タイトル | Negative stain map of conformation Straight III of T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex | |||||||||
マップデータ | T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformation Straight III | |||||||||
試料 |
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生物種 | bacteriophage T (ウイルス) | |||||||||
手法 | 単粒子再構成法 / ネガティブ染色法 / 解像度: 10.7 Å | |||||||||
データ登録者 | Zhang L / Li N | |||||||||
資金援助 | 中国, 1件
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引用 | ジャーナル: To Be Published タイトル: Repair of DNA nick by T4 DNA ligase in three parallel pathways 著者: Zhang L / Li N | |||||||||
履歴 |
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-構造の表示
添付画像 |
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-ダウンロードとリンク
-EMDBアーカイブ
マップデータ | emd_31746.map.gz | 3.3 MB | EMDBマップデータ形式 | |
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ヘッダ (付随情報) | emd-31746-v30.xml emd-31746.xml | 11.9 KB 11.9 KB | 表示 表示 | EMDBヘッダ |
FSC (解像度算出) | emd_31746_fsc.xml | 3.7 KB | 表示 | FSCデータファイル |
画像 | emd_31746.png | 23.8 KB | ||
アーカイブディレクトリ | http://ftp.pdbj.org/pub/emdb/structures/EMD-31746 ftp://ftp.pdbj.org/pub/emdb/structures/EMD-31746 | HTTPS FTP |
-検証レポート
文書・要旨 | emd_31746_validation.pdf.gz | 330.7 KB | 表示 | EMDB検証レポート |
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文書・詳細版 | emd_31746_full_validation.pdf.gz | 330.3 KB | 表示 | |
XML形式データ | emd_31746_validation.xml.gz | 7.5 KB | 表示 | |
CIF形式データ | emd_31746_validation.cif.gz | 9.2 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | https://ftp.pdbj.org/pub/emdb/validation_reports/EMD-31746 ftp://ftp.pdbj.org/pub/emdb/validation_reports/EMD-31746 | HTTPS FTP |
-関連構造データ
-リンク
EMDBのページ | EMDB (EBI/PDBe) / EMDataResource |
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-マップ
ファイル | ダウンロード / ファイル: emd_31746.map.gz / 形式: CCP4 / 大きさ: 3.8 MB / タイプ: IMAGE STORED AS FLOATING POINT NUMBER (4 BYTES) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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注釈 | T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformation Straight III | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
投影像・断面図 | 画像のコントロール
画像は Spider により作成 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
ボクセルのサイズ | X=Y=Z: 1.607 Å | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
密度 |
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対称性 | 空間群: 1 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
詳細 | EMDB XML:
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-添付データ
-試料の構成要素
-全体 : T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformati...
全体 | 名称: T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformation Straight III |
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要素 |
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-超分子 #1: T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformati...
超分子 | 名称: T4 DNA ligase binding nick double-stranded DNA complex conformation Straight III タイプ: complex / ID: 1 / 親要素: 0 |
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由来(天然) | 生物種: bacteriophage T (ウイルス) |
分子量 | 理論値: 55 KDa |
-実験情報
-構造解析
手法 | ネガティブ染色法 |
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解析 | 単粒子再構成法 |
試料の集合状態 | particle |
-試料調製
濃度 | 0.011 mg/mL | ||||||||||||||||||
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緩衝液 | pH: 7.5 構成要素:
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染色 | タイプ: NEGATIVE / 材質: Uranyl Acetate 詳細: A 4.0 uL drop of the sample was placed on a glow-discharged EM specimen grid (CF200-Cu, Electron Microscopy Sciences, Hatfield, PA, USA) with a thin carbon film for 1 min and the excess ...詳細: A 4.0 uL drop of the sample was placed on a glow-discharged EM specimen grid (CF200-Cu, Electron Microscopy Sciences, Hatfield, PA, USA) with a thin carbon film for 1 min and the excess solution was blotted with filter paper. Then, the grid was washed with a clean drop (~35 uL/drop) of water and stained two times with two drops (~25 uL/drop) of 2% (w/v) uranyl acetate (UA) for 10 s, 30 s respectively before air-drying. | ||||||||||||||||||
グリッド | モデル: C-flat / 材質: COPPER / メッシュ: 200 / 支持フィルム - 材質: CARBON / 支持フィルム - トポロジー: CONTINUOUS / 支持フィルム - Film thickness: 3.0 nm / 前処理 - タイプ: GLOW DISCHARGE / 前処理 - 雰囲気: AIR / 前処理 - 気圧: 0.038 kPa | ||||||||||||||||||
詳細 | T4 DNA ligase and nicked double-stranded DNA substrate were mixed at a molar ratio of 1:1 |
-電子顕微鏡法
顕微鏡 | TFS TALOS F200C |
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撮影 | フィルム・検出器のモデル: FEI CETA (4k x 4k) / デジタル化 - サイズ - 横: 4096 pixel / デジタル化 - サイズ - 縦: 4096 pixel / 実像数: 3765 / 平均露光時間: 1.0 sec. / 平均電子線量: 160.0 e/Å2 |
電子線 | 加速電圧: 200 kV / 電子線源: FIELD EMISSION GUN |
電子光学系 | 照射モード: FLOOD BEAM / 撮影モード: BRIGHT FIELD / Cs: 2.7 mm |
実験機器 | モデル: Tecnai F20 / 画像提供: FEI Company |