プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97917 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→50 Å / Num. obs: 106109 / % possible obs: 97.3 % / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.118 / Rsym value: 0.124 / Net I/σ(I): 27.5
反射 シェル
解像度: 1.95→2.02 Å / 冗長度: 4.5 % / Rmerge(I) obs: 0.3 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / Rsym value: 0.317 / % possible all: 79.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.3.0037
精密化
ADSC
Quantum
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→33.28 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.932 / SU B: 3.673 / SU ML: 0.107 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.171 / ESU R Free: 0.159 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21485
5292
5 %
RANDOM
Rwork
0.15692
-
-
-
obs
0.15984
100554
96.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK