温度: 276 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 5.5 詳細: 25% PEG 3350, 01. bis-tris, 10 mM DTT, pH 5.5, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 276K
-
データ収集
回折
ID
Crystal-ID
1
1
2
1
3
1
1,2
1
放射光源
由来
サイト
ビームライン
ID
波長 (Å)
シンクロトロン
NSLS
X25
1
0.9687,1.0095,1.007,1.008
シンクロトロン
ALS
8.2.1
2
1.8997,1.8453
シンクロトロン
APS
22-BM
3
1
検出器
タイプ
ID
検出器
ADSC QUANTUM 315
1
CCD
ADSC QUANTUM 315
2
CCD
MARMOSAIC 300 mm CCD
3
CCD
放射
ID
プロトコル
単色(M)・ラウエ(L)
散乱光タイプ
Wavelength-ID
1
MAD
M
x-ray
1
2
MAD
M
x-ray
1
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.9687
1
2
1.0095
1
3
1.007
1
4
1.008
1
5
1.8997
1
6
1.8453
1
7
1
1
反射
解像度: 1.22→50 Å / Num. obs: 86414
反射 シェル
解像度: 1.22→1.26 Å / % possible all: 95.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SCALEPACK
データスケーリング
SOLVE
位相決定
REFMAC
5
精密化
HKL-2000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.22→47.35 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 0.687 / SU ML: 0.032 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.053 / ESU R Free: 0.054 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.221
4267
5 %
RANDOM
Rwork
0.19775
-
-
-
obs
0.19891
81139
94.42 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK