温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 8.5 詳細: 16% PEG 4000, 0.08M Magnesium chloride hexahydrate, 0.1M Tris hydrochloride, pH 8.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 298K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: SSRF / ビームライン: BL17U / 波長: 1 Å
検出器
検出器: CCD
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 13.3 % / 数: 122549 / Rmerge(I) obs: 0.143 / Χ2: 1 / D res high: 2.25 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 9244 / % possible obs: 98.4
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.85
50
99.7
1
0.084
0.999
13.3
3.85
4.85
94.5
1
0.096
0.998
12.9
3.36
3.85
96.8
1
0.16
0.995
11.5
3.05
3.36
100
1
0.112
0.997
14.4
2.83
3.05
100
1
0.141
0.992
14.5
2.67
2.83
100
1
0.201
0.993
14.5
2.53
2.67
100
1
0.313
1.007
14.3
2.42
2.53
100
1
0.286
1.007
14
2.33
2.42
99.8
1
0.337
0.992
12.7
2.25
2.33
93.6
1
0.503
1.005
10.4
反射
解像度: 2.4→50 Å / Num. obs: 7108 / % possible obs: 92.1 % / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.125 / Χ2: 1 / Net I/σ(I): 9.1
反射 シェル
Diffraction-ID: 1 / Rejects: 0
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
2.4-2.49
4.2
0.46
735
1.006
98.7
2.49-2.59
4.5
0.374
736
1.004
97.9
2.59-2.7
3.7
0.441
704
0.994
92.8
2.7-2.85
4.6
0.251
752
0.993
97.9
2.85-3.02
4.7
0.182
751
1.005
98.3
3.02-3.26
4.7
0.144
745
1.003
97.8
3.26-3.58
4.2
0.123
634
0.997
83.9
3.58-4.1
3.9
0.116
494
0.999
63.2
4.1-5.17
4.7
0.091
764
0.997
96.6
5.17-50
4.4
0.069
793
0.998
94.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.7.0032
精密化
PDB_EXTRACT
3.14
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.4→43.25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 9.351 / SU ML: 0.21 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.43 / ESU R Free: 0.281 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES: REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.257
330
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.1924
-
-
-
obs
0.1954
7060
91.62 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK